可調(diào)式陰極模塊2021年2月3日涂層關(guān)鍵技術(shù) 多弧濺射陰極電弧5148APC 陰極模塊 可調(diào)式磁場設(shè)計,確保更高的靶材利用率。擁有更快的弧斑跑動速度,較小的弧光斑點,較高的離化率,較小的液滴。更利于低熔點靶材的離化,尤其適用于AlCrN基涂層制備。 AFC陰極模塊 通過調(diào)整陰極磁場的布局,改變水平磁場和軸向磁場分量,確?;」馀軇铀俣群图?xì)化。先進(jìn)的高能離子源可有效減少涂層液滴,滿足大多數(shù)單層,多層,納米層的涂層生產(chǎn)。尤其在3C銑刀領(lǐng)域表現(xiàn)突出。 上一篇: 整廠涂層工藝過程下一篇: 刻蝕模塊