納獅Spark高光弧技術，廣泛用于3C高光刀涂層應用。相較于傳統(tǒng)的過慮弧多弧離子鍍，甚至最新的Hipims高頻磁控濺射，液滴明顯及膜缺陷顯著減少。

01 常見PVD設備工藝對比

 

納獅Spark無液滴技術再創(chuàng)新突破： 以TiN 涂層為例，厚度2.5um，沉積速率0.5um/h，Ra＜0.05um，硬度34Gpa.

多弧離子鍍	磁控濺射	納獅Spark高光弧
靶材材料受限 表面粗糙度高＞Ra0.2 離化率高＞60% 沉積速率高＞1um/h	濺射材料豐富 表面粗糙度低Ra0.05 離化率低20%-40% 沉積速率低0.35um/h	濺射材料豐富 表面粗糙度低<Ra0.05 離化率低＞90% 沉積速率低0.5um/h

 

02 高光弧工藝特點

• 高光弧涂層：鍍膜更硬更少液滴
  
• 高光弧涂層：減小表面粗糙度可減小表面潤濕性，起到抗沾粘效果
  
• 高光弧涂層：較少涂層液滴，缺陷更少，涂層更致密
  

03 納獅高光弧真空鍍膜設備

納獅PVD、PECVD、DLC工藝真空鍍膜設備，適用于刀具涂層、模具涂層、零件涂層及醫(yī)療生物涂層。提供整廠軟硬件交鑰匙輸出方案，并提供“陪跑”服務，真正幫助客戶講真空鍍膜哦設備用好用得起來。

04 高光弧刀具Ta-c涂層應用

使用Ta-C涂層可以有效提升刀具壽命，降低加工成本，提升產品質量。