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刻蝕模塊
SET刻蝕模塊
側(cè)面氬離子體清洗系統(tǒng)確保涂層有效區(qū)域刻蝕均勻性為±10%, 刻蝕速率250nm/h,有效祛除基體材料表面微氧化層,增強涂層與基材結(jié)合力。
MET刻蝕模塊
金屬刻蝕可以增強硬質(zhì)涂層與基材結(jié)合力。通過調(diào)整陰極磁場設(shè)計,確保陰極在低電流條件下工作,控制金屬刻蝕的能量。低電流的金屬刻蝕可以有效減少刀工具燒蝕風(fēng)險。

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側(cè)面氬離子體清洗系統(tǒng)確保涂層有效區(qū)域刻蝕均勻性為±10%, 刻蝕速率250nm/h,有效祛除基體材料表面微氧化層,增強涂層與基材結(jié)合力。
金屬刻蝕可以增強硬質(zhì)涂層與基材結(jié)合力。通過調(diào)整陰極磁場設(shè)計,確保陰極在低電流條件下工作,控制金屬刻蝕的能量。低電流的金屬刻蝕可以有效減少刀工具燒蝕風(fēng)險。
