Naxau，提供卓越的鍍膜裝備和技術(shù)解決方案

納獅是國(guó)內(nèi)少數(shù)幾家掌握真空鍍膜技術(shù)及設(shè)備Know-How的廠家，擁有省級(jí)新材料研發(fā)實(shí)驗(yàn)室。納獅掌握納米涂層的核心關(guān)鍵點(diǎn)工藝，并可獨(dú)立定制研發(fā)PECVD、PVD及ALD等多種真空鍍膜系統(tǒng)。

布局新賽道（導(dǎo)電、絕緣、防腐、導(dǎo)熱、貴金屬替代與回收）

• →燃料電池金屬雙極板涂層
• →光伏硅異質(zhì)結(jié)電池鍍膜
• →高阻隔膜真空鍍膜
• →半導(dǎo)體IC制造
• →光伏太陽(yáng)能電池
• →傳感器涂層
• →航空、航天涂層
• →替代Au焊錫濺射工藝

我們的團(tuán)隊(duì)

• 研發(fā)團(tuán)隊(duì)17人（院士1名、博士3名、碩士6名）
• 授權(quán) 32件（發(fā)明14件、PCT2件）

• 首席科學(xué)家 Judith Driscoll——英國(guó)劍橋大學(xué) 材料學(xué)教授；英國(guó)工程院院士
• 沈?qū)W忠 碩士——高性能納米涂層材料及應(yīng)用技術(shù)專家；發(fā)明 4項(xiàng)
• 朱國(guó)朝 碩士——PVD設(shè)備設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)；實(shí)用新型 9件
• 溫振偉 碩士——PVD涂層工藝；實(shí)用新型 12件，PCT1件

設(shè)備設(shè)計(jì)優(yōu)勢(shì)

納獅開(kāi)發(fā)的氣象真空鍍膜設(shè)備擁有自有知識(shí)產(chǎn)權(quán)，國(guó)際化的研發(fā)團(tuán)隊(duì)，大幅縮小與世界頂尖設(shè)備的差距。完善的整廠交鑰匙方案，可實(shí)現(xiàn)從研發(fā)到連續(xù)式生產(chǎn)的無(wú)縫連接。

• PVD、CVD、ALD等多種涂層技術(shù)
• 貴金屬/稀有金屬，金屬氧化物涂層，碳基涂層，硅基涂層等，擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的多層結(jié)構(gòu)、復(fù)合功能的涂層工藝

掌握涂層檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)定制的主動(dòng)權(quán)

納獅擁有涂層材料分析實(shí)驗(yàn)室，依據(jù)測(cè)試數(shù)據(jù)不斷提升涂層性能。

納獅涂層已獲得多項(xiàng)核心 ，其中最具代表的就是第六代的無(wú)液滴SPARK6技術(shù)平臺(tái)。我們?cè)谥袊?guó)與眾不同的地方就是集團(tuán)投資巨資設(shè)立了一個(gè)完整的研發(fā)中心。

光伏硅異質(zhì)結(jié)電池鍍膜工藝，實(shí)現(xiàn)電池效率再破紀(jì)錄

作為新一代高效光伏電池中的佼佼者，異質(zhì)結(jié)HJT電池具備轉(zhuǎn)換效率高、提效空間大、發(fā)電能力強(qiáng)、工藝流程短等多重優(yōu)勢(shì)，轉(zhuǎn)換效率高達(dá) 26.3%，目前正受到產(chǎn)業(yè)資本的高度關(guān)注。

從工藝來(lái)看，HJT電池的工藝相較于PERC電池工藝大幅減少，主要包括制絨清洗、非晶硅薄膜沉積、TCO膜沉積和電極金屬化，而工藝步驟的減少對(duì)于良率的提升形成了有效支撐，這也是很多企業(yè)選擇HJT的關(guān)鍵。

納獅硅異質(zhì)結(jié)電池鍍膜設(shè)備，正不斷提升薄膜沉積的良率，不斷突破真空鍍膜設(shè)備的成本和材料成本。

納獅新能源實(shí)驗(yàn)室，期望行業(yè)人士及專家交流與合作。

高阻隔膜真空鍍膜設(shè)備 – 包裝材料壽命延長(zhǎng)方案

高阻隔材料的應(yīng)用

高阻隔膜其實(shí)早已出現(xiàn)在日常生活中，目前的高分子高阻隔材料主要應(yīng)用于食品與藥品包裝、電子器件封裝、太陽(yáng)能電池封裝、OLED封裝。

1. 食品與藥品包裝

食品與藥品包裝是目前高阻隔材料應(yīng)用最廣的領(lǐng)域。主要是為了防止空氣中的氧氣和水蒸氣進(jìn)入包裝中使食物和藥品變質(zhì)，而大大降低了其保質(zhì)期。
對(duì)于食品與藥品包裝一般對(duì)阻隔要求不是特別高，要求阻隔的材料的水蒸氣透過(guò)率（WVTＲ）和 氧透過(guò)率（OTＲ）要分別低于10g/m2/day和100cm3/m2 /day。

2. 電子器件封裝

現(xiàn)代電子信息的快速發(fā)展，人們對(duì)電子元器件提出了更高的要求，向便攜性、多功能化發(fā)展。這就對(duì)電子器件封裝材料提出了更高的要求，既要具有良好的絕緣性，又要能保護(hù)其不會(huì)受到外界氧氣和水蒸氣的腐蝕，而且還要具有一定的強(qiáng)度，這就需要使用到高分子阻隔材料。
一般電子器件對(duì)封裝材料阻隔性要求為水蒸氣透過(guò)率（WVTR）和氧透過(guò)率（OTR）要分別低 于10－1g/m2/day和1cm3/m2 /day。

3. 太陽(yáng)能電池封裝

由于太陽(yáng)能常年暴露在空氣中，空氣中的氧氣和水蒸氣易對(duì)太陽(yáng)能電池外面的金屬化層產(chǎn)生腐蝕作用，嚴(yán)重影響太陽(yáng)能電池的使用。所以有必要對(duì)太陽(yáng)能電池組件采用高阻隔材料進(jìn)行封裝處理，這樣不僅可以使太陽(yáng)能電池的使用壽命得到了保障，還增強(qiáng)了電池的抗擊強(qiáng)度。
太陽(yáng)能電池對(duì)封裝材料阻隔性要求為水蒸氣透過(guò)率（WVTR）和氧透過(guò)率（OTR）要分別低于10－2g/m2/day和10－1cm3/m2/day。

4. OLED封裝

OLED從開(kāi)發(fā)初期起就被寄予了下一代顯示器的重任，但壽命過(guò)短一直是制約其商業(yè)化應(yīng)用的一大難題，影響OLED使用壽命的主要原因是電極材料和發(fā)光材料對(duì)氧、水、雜質(zhì)都非常敏感，很容易被污染從而導(dǎo)致器件性能的下降，從而降低發(fā)光效率，縮短使用壽命。
為了保證產(chǎn)品的發(fā)光效率并延長(zhǎng)其使用壽命，器件在封裝時(shí)一定要隔絕氧和水。
并且為了保證柔性O(shè)LED顯示器的使用壽命大于10000h，必須要求阻隔的材料的水蒸氣透過(guò)率（WVTR）和氧透過(guò)率（OTR）要分別低于10－6g/m2/day和10－5cm3/m2/day，其標(biāo)準(zhǔn)遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于在有機(jī)光伏、太陽(yáng)能電池封裝以及食品、藥品和電子器件包裝技術(shù)等領(lǐng)域?qū)ψ韪粜阅艿囊?，因此必須選用阻隔性能十分優(yōu)異的柔性襯底材料對(duì)器件進(jìn)行封裝，才能滿足產(chǎn)品壽命的嚴(yán)格要求。
聚合物表面由于經(jīng)常與外界環(huán)境接觸，容易對(duì)聚合物的表面吸附、阻隔性、印刷產(chǎn)生影響。為了讓聚合物能更好的應(yīng)用于日常生活，通常對(duì)聚合物的表面進(jìn)行處理。 主要包括：表面化學(xué)處理、表面接枝改性以及等離子體表面處理。
表面涂覆即利用物理氣象沉積（PVD）、化學(xué)氣相沉積（CVD）、原子層沉積（ALD）、分子層沉積（MLD）、層層自組裝（LBL）或磁控濺射沉積等技術(shù)在聚合物表面沉積金屬氧化物或氮化物等材料，從而在薄膜表面形成致密且阻隔性能優(yōu)異的涂層。
納米復(fù)合材料是利用不可滲透且具有大的長(zhǎng)徑比的片狀納米粒子通過(guò)插層復(fù)合法、原位聚合法或溶膠-凝膠法制備的納米復(fù)合材料。片狀納米粒子的加入這不僅可以降低體系中聚合物基體的體積分?jǐn)?shù)，以降低滲透分子的溶解度，而且還能夠延長(zhǎng)滲透分子的滲透路徑，降低滲透分子的擴(kuò)散速率，使阻隔性能得到改進(jìn)。

鍍膜必要條件

基材

基材必須具備表面平坦度，光學(xué)特性，可承受鍍膜的耐性。一般情況下使用表面附帶功能涂布層的PET基材。
鍍膜工藝
可廉價(jià)制備可連續(xù)鍍膜的真空卷對(duì)卷工藝?；木?卷長(zhǎng)度數(shù)千米，所以必須要有能穩(wěn)定鍍膜長(zhǎng)尺寸基材的鍍膜工藝。在沒(méi)有光學(xué)問(wèn)題發(fā)生的范圍內(nèi)，必須保證寬度方向的膜厚均一性。

膜種

考慮到光學(xué)特性，一般使用Si系列的膜。單層膜結(jié)構(gòu)，因SiO系的光學(xué)性折射率低，折射率接近于基材所以被建議使用。SiN系在阻隔性?彎曲性上表現(xiàn)優(yōu)越，但因折射率高使得光線透過(guò)成了難題。多層膜結(jié)構(gòu)，在阻隔性、彎曲性方面建議使用。同時(shí)，從故有的制造方法進(jìn)行生產(chǎn)的話成本有高昂的傾向。

納獅新能源實(shí)驗(yàn)室，提供整廠定制真空鍍膜設(shè)備工藝及設(shè)備方案。

歡迎交流和咨詢。

高可靠性高功率器件焊錫濺射（取代Au濺射）技術(shù)及設(shè)備，可實(shí)現(xiàn)材料成本減半

工業(yè)控制及自動(dòng)化、新能源汽車、電機(jī)節(jié)能、太陽(yáng)能風(fēng)能發(fā)電等領(lǐng)域需要各種類型的功率器件，功率器件制造流程，硅片的歐姆接觸層，采用高可靠性焊錫濺射取代純金濺射工藝，可以實(shí)現(xiàn)材料成本減半。

熱循環(huán)測(cè)試、1個(gè)循環(huán)：-40°C×30min，125°C×30min。焊錫濺射在1000個(gè)循環(huán)結(jié)束后，仍獲得了與常規(guī)工藝相同甚至更好的接合強(qiáng)度。

假設(shè)常規(guī)工藝的膜材料成本為1，對(duì)無(wú)Au新工藝的成本進(jìn)行了估算，與傳統(tǒng)的Au濺射相比，焊錫濺射可以降低約50%的膜材料成本。

多樣的設(shè)備構(gòu)成方案：可以根據(jù)膜種和要求提供各種設(shè)備構(gòu)成提案，multi cathode Carousel設(shè)備可以減少chamber數(shù)，實(shí)現(xiàn)成本控制。

納獅新能源實(shí)驗(yàn)室，提供整廠定制真空鍍膜設(shè)備工藝及設(shè)備方案。

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