納獅是國內(nèi)少數(shù)幾家掌握真空鍍膜技術(shù)及設(shè)備Know-How的廠家,擁有省級新材料研發(fā)實驗室。納獅掌握納米涂層的核心關(guān)鍵點工藝,并可獨立定制研發(fā)PECVD、PVD及ALD等多種真空鍍膜系統(tǒng)。
布局新賽道(導(dǎo)電、絕緣、防腐、導(dǎo)熱、貴金屬替代與回收)
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納獅開發(fā)的氣象真空鍍膜設(shè)備擁有自有知識產(chǎn)權(quán),國際化的研發(fā)團隊,大幅縮小與世界頂尖設(shè)備的差距。完善的整廠交鑰匙方案,可實現(xiàn)從研發(fā)到連續(xù)式生產(chǎn)的無縫連接。

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納獅擁有涂層材料分析實驗室,依據(jù)測試數(shù)據(jù)不斷提升涂層性能。
納獅涂層已獲得多項核心 ,其中最具代表的就是第六代的無液滴SPARK6技術(shù)平臺。我們在中國與眾不同的地方就是集團投資巨資設(shè)立了一個完整的研發(fā)中心。

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作為新一代高效光伏電池中的佼佼者,異質(zhì)結(jié)HJT電池具備轉(zhuǎn)換效率高、提效空間大、發(fā)電能力強、工藝流程短等多重優(yōu)勢,轉(zhuǎn)換效率高達 26.3%,目前正受到產(chǎn)業(yè)資本的高度關(guān)注。
從工藝來看,HJT電池的工藝相較于PERC電池工藝大幅減少,主要包括制絨清洗、非晶硅薄膜沉積、TCO膜沉積和電極金屬化,而工藝步驟的減少對于良率的提升形成了有效支撐,這也是很多企業(yè)選擇HJT的關(guān)鍵。

納獅硅異質(zhì)結(jié)電池鍍膜設(shè)備,正不斷提升薄膜沉積的良率,不斷突破真空鍍膜設(shè)備的成本和材料成本。
納獅新能源實驗室,期望行業(yè)人士及專家交流與合作。
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高阻隔膜其實早已出現(xiàn)在日常生活中,目前的高分子高阻隔材料主要應(yīng)用于食品與藥品包裝、電子器件封裝、太陽能電池封裝、OLED封裝。

食品與藥品包裝是目前高阻隔材料應(yīng)用最廣的領(lǐng)域。主要是為了防止空氣中的氧氣和水蒸氣進入包裝中使食物和藥品變質(zhì),而大大降低了其保質(zhì)期。
對于食品與藥品包裝一般對阻隔要求不是特別高,要求阻隔的材料的水蒸氣透過率(WVTR)和 氧透過率(OTR)要分別低于10g/m2/day和100cm3/m2 /day。
現(xiàn)代電子信息的快速發(fā)展,人們對電子元器件提出了更高的要求,向便攜性、多功能化發(fā)展。這就對電子器件封裝材料提出了更高的要求,既要具有良好的絕緣性,又要能保護其不會受到外界氧氣和水蒸氣的腐蝕,而且還要具有一定的強度,這就需要使用到高分子阻隔材料。
一般電子器件對封裝材料阻隔性要求為水蒸氣透過率(WVTR)和氧透過率(OTR)要分別低 于10-1g/m2/day和1cm3/m2 /day。
由于太陽能常年暴露在空氣中,空氣中的氧氣和水蒸氣易對太陽能電池外面的金屬化層產(chǎn)生腐蝕作用,嚴(yán)重影響太陽能電池的使用。所以有必要對太陽能電池組件采用高阻隔材料進行封裝處理,這樣不僅可以使太陽能電池的使用壽命得到了保障,還增強了電池的抗擊強度。
太陽能電池對封裝材料阻隔性要求為水蒸氣透過率(WVTR)和氧透過率(OTR)要分別低于10-2g/m2/day和10-1cm3/m2/day。
OLED從開發(fā)初期起就被寄予了下一代顯示器的重任,但壽命過短一直是制約其商業(yè)化應(yīng)用的一大難題,影響OLED使用壽命的主要原因是電極材料和發(fā)光材料對氧、水、雜質(zhì)都非常敏感,很容易被污染從而導(dǎo)致器件性能的下降,從而降低發(fā)光效率,縮短使用壽命。
為了保證產(chǎn)品的發(fā)光效率并延長其使用壽命,器件在封裝時一定要隔絕氧和水。
并且為了保證柔性O(shè)LED顯示器的使用壽命大于10000h,必須要求阻隔的材料的水蒸氣透過率(WVTR)和氧透過率(OTR)要分別低于10-6g/m2/day和10-5cm3/m2/day,其標(biāo)準(zhǔn)遠遠高于在有機光伏、太陽能電池封裝以及食品、藥品和電子器件包裝技術(shù)等領(lǐng)域?qū)ψ韪粜阅艿囊?,因此必須選用阻隔性能十分優(yōu)異的柔性襯底材料對器件進行封裝,才能滿足產(chǎn)品壽命的嚴(yán)格要求。
聚合物表面由于經(jīng)常與外界環(huán)境接觸,容易對聚合物的表面吸附、阻隔性、印刷產(chǎn)生影響。為了讓聚合物能更好的應(yīng)用于日常生活,通常對聚合物的表面進行處理。 主要包括:表面化學(xué)處理、表面接枝改性以及等離子體表面處理。
表面涂覆即利用物理氣象沉積(PVD)、化學(xué)氣相沉積(CVD)、原子層沉積(ALD)、分子層沉積(MLD)、層層自組裝(LBL)或磁控濺射沉積等技術(shù)在聚合物表面沉積金屬氧化物或氮化物等材料,從而在薄膜表面形成致密且阻隔性能優(yōu)異的涂層。
納米復(fù)合材料是利用不可滲透且具有大的長徑比的片狀納米粒子通過插層復(fù)合法、原位聚合法或溶膠-凝膠法制備的納米復(fù)合材料。片狀納米粒子的加入這不僅可以降低體系中聚合物基體的體積分?jǐn)?shù),以降低滲透分子的溶解度,而且還能夠延長滲透分子的滲透路徑,降低滲透分子的擴散速率,使阻隔性能得到改進。
基材必須具備表面平坦度,光學(xué)特性,可承受鍍膜的耐性。一般情況下使用表面附帶功能涂布層的PET基材。
鍍膜工藝
可廉價制備可連續(xù)鍍膜的真空卷對卷工藝?;木?卷長度數(shù)千米,所以必須要有能穩(wěn)定鍍膜長尺寸基材的鍍膜工藝。在沒有光學(xué)問題發(fā)生的范圍內(nèi),必須保證寬度方向的膜厚均一性。
考慮到光學(xué)特性,一般使用Si系列的膜。單層膜結(jié)構(gòu),因SiO系的光學(xué)性折射率低,折射率接近于基材所以被建議使用。SiN系在阻隔性?彎曲性上表現(xiàn)優(yōu)越,但因折射率高使得光線透過成了難題。多層膜結(jié)構(gòu),在阻隔性、彎曲性方面建議使用。同時,從故有的制造方法進行生產(chǎn)的話成本有高昂的傾向。
納獅新能源實驗室,提供整廠定制真空鍍膜設(shè)備工藝及設(shè)備方案。
歡迎交流和咨詢。
]]>工業(yè)控制及自動化、新能源汽車、電機節(jié)能、太陽能風(fēng)能發(fā)電等領(lǐng)域需要各種類型的功率器件,功率器件制造流程,硅片的歐姆接觸層,采用高可靠性焊錫濺射取代純金濺射工藝,可以實現(xiàn)材料成本減半。
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熱循環(huán)測試、1個循環(huán):-40°C×30min,125°C×30min。焊錫濺射在1000個循環(huán)結(jié)束后,仍獲得了與常規(guī)工藝相同甚至更好的接合強度。

假設(shè)常規(guī)工藝的膜材料成本為1,對無Au新工藝的成本進行了估算,與傳統(tǒng)的Au濺射相比,焊錫濺射可以降低約50%的膜材料成本。

多樣的設(shè)備構(gòu)成方案:可以根據(jù)膜種和要求提供各種設(shè)備構(gòu)成提案,multi cathode Carousel設(shè)備可以減少chamber數(shù),實現(xiàn)成本控制。
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納獅新能源實驗室,提供整廠定制真空鍍膜設(shè)備工藝及設(shè)備方案。
歡迎交流和咨詢。
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側(cè)面氬離子體清洗系統(tǒng)確保涂層有效區(qū)域刻蝕均勻性為±10%, 刻蝕速率250nm/h,有效祛除基體材料表面微氧化層,增強涂層與基材結(jié)合力。
金屬刻蝕可以增強硬質(zhì)涂層與基材結(jié)合力。通過調(diào)整陰極磁場設(shè)計,確保陰極在低電流條件下工作,控制金屬刻蝕的能量。低電流的金屬刻蝕可以有效減少刀工具燒蝕風(fēng)險。


可調(diào)式磁場設(shè)計,確保更高的靶材利用率。擁有更快的弧斑跑動速度,較小的弧光斑點,較高的離化率,較小的液滴。更利于低熔點靶材的離化,尤其適用于AlCrN基涂層制備。

納獅多年沉浸于研究PVD功能性硬質(zhì)涂層技術(shù),并根據(jù)客戶工件的特性需求設(shè)計了多種預(yù)處理和后處理方法,大幅提升涂層的結(jié)合力,確保涂層質(zhì)量的穩(wěn)定性、一致性。納獅涂層,可顯著改善基材的表面功能性能:
納米涂層,可降低工件消耗成本,提升工件生產(chǎn)效率和使用壽命!
頂級的涂層品質(zhì),需要嚴(yán)格控制涂層工藝的每步流程質(zhì)量。納獅20年涂層工藝經(jīng)驗積累,針對國內(nèi)各種主流刀工具、零件和磨具,針對3C、汽車、數(shù)控加工、醫(yī)療等多個行業(yè),都有豐富的前后處理,涂層制程,及溫度控制經(jīng)驗。
納獅,是中國少數(shù)幾家完全掌握多種涂層技術(shù),以及具備涂層設(shè)備改造和維護能力的公司。2021年,納獅可提供高性價比的整廠涂層交鑰匙方案,以及定制涂層技術(shù)開發(fā)服務(wù)。

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