刻蝕模塊 2021年2月3日 5521 SET刻蝕模塊MET刻蝕模塊側(cè)面氬離子體清洗系統(tǒng)確保涂層有效區(qū)域刻蝕均勻性為±10%， 刻蝕速率250nm/h，有效祛除基體材料表面微氧化層，增強(qiáng)涂層與基材結(jié)合力。 金屬刻蝕可以增強(qiáng)硬質(zhì)涂層與基材結(jié)合力。通過(guò)調(diào)整陰極磁場(chǎng)設(shè)計(jì)，確保陰極在低電流條件下工作，控制金... 查看全文
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