可調(diào)式磁場(chǎng)設(shè)計(jì),確保更高的靶材利用率。擁有更快的弧斑跑動(dòng)速度,較小的弧光斑點(diǎn),較高的離化率,較小的液滴。更利于低熔點(diǎn)靶材的離化,尤其適用于AlCrN基涂層制備。
通過(guò)調(diào)整陰極磁場(chǎng)的布局,改變水平磁場(chǎng)和軸向磁場(chǎng)分量,確?;」馀軇?dòng)速度和細(xì)化。先進(jìn)的高能離子源可有效減少涂層液滴,滿足大多數(shù)單層,多層,納米層的涂層生產(chǎn)。尤其在3C銑刀領(lǐng)域表現(xiàn)突出。

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