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磁控濺射-雙磁控和中頻磁控濺射

2019年2月13日 3451

參考：高沉積速率和靶材利用率對于工業(yè)過程非常重要。盡管磁控管陰極的沉積速率相對較高，但不如蒸發(fā)過程的沉積速率高（在先前的博客中已解決）。雙磁控管/脈沖磁控管配置既可實(shí)現(xiàn)高沉積速率，又可提高材料利用率[1,2,3]。雙磁控濺射使用中頻（?40 kHz – 300 kHz）...

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