大功率無液滴高光弧PVD真空設(shè)備與先進(jìn)工模具涂層解決方案

靈兮 — Wed, 28 Sep 2022 05:48:03 +0000

納獅Spark高光弧技術(shù)，廣泛用于3C高光刀涂層應(yīng)用。相較于傳統(tǒng)的過慮弧多弧離子鍍，甚至最新的Hipims高頻磁控濺射，液滴明顯及膜缺陷顯著減少。

01 常見PVD設(shè)備工藝對(duì)比

納獅Spark無液滴技術(shù)再創(chuàng)新突破：以TiN 涂層為例，厚度2.5um，沉積速率0.5um/h，Ra＜0.05um，硬度34Gpa.

多弧離子鍍	磁控濺射	納獅Spark高光弧
靶材材料受限表面粗糙度高＞Ra0.2 離化率高＞60% 沉積速率高＞1um/h	濺射材料豐富表面粗糙度低Ra0.05 離化率低20%-40% 沉積速率低0.35um/h	濺射材料豐富表面粗糙度低離化率低＞90% 沉積速率低0.5um/h

多弧離子鍍

磁控濺射

納獅Spark高光弧

靶材材料受限

表面粗糙度高＞Ra0.2

離化率高＞60%

沉積速率高＞1um/h

濺射材料豐富

表面粗糙度低Ra0.05

離化率低20%-40%

沉積速率低0.35um/h

濺射材料豐富

表面粗糙度低

離化率低＞90%

沉積速率低0.5um/h

02 高光弧工藝特點(diǎn)

高光弧涂層：鍍膜更硬更少液滴
高光弧涂層：減小表面粗糙度可減小表面潤濕性，起到抗沾粘效果
高光弧涂層：較少涂層液滴，缺陷更少，涂層更致密

03 納獅高光弧真空鍍膜設(shè)備

納獅PVD、PECVD、DLC工藝真空鍍膜設(shè)備，適用于刀具涂層、模具涂層、零件涂層及醫(yī)療生物涂層。提供整廠軟硬件交鑰匙輸出方案，并提供“陪跑”服務(wù)，真正幫助客戶講真空鍍膜哦設(shè)備用好用得起來。

04 高光弧刀具Ta-c涂層應(yīng)用

使用Ta-C涂層可以有效提升刀具壽命，降低加工成本，提升產(chǎn)品質(zhì)量。

直面5G，2020大灣區(qū)先進(jìn)涂層技術(shù)創(chuàng)新發(fā)展論壇暨行業(yè)展覽

靈兮 — Thu, 26 Nov 2020 01:49:36 +0000

11月25日，2020大灣區(qū)先進(jìn)涂層技術(shù)創(chuàng)新發(fā)展論壇暨行業(yè)展覽在深圳國際會(huì)展中心舉行。納獅新材料積極參與5G等新興行業(yè)應(yīng)用技術(shù)的開發(fā)與實(shí)踐，并帶來了精心準(zhǔn)備的定制PVD涂層方案。

該論壇由深圳市真空技術(shù)行業(yè)協(xié)會(huì)、訊通展覽公司、深圳市真空學(xué)會(huì)、深圳市寶安區(qū)真空產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新聯(lián)盟、深圳市榮森會(huì)議展覽有限公司聯(lián)合主辦，為DMP2020大灣區(qū)工博會(huì)同期大型論壇活動(dòng)。來自國內(nèi)外涂層技術(shù)領(lǐng)域的專家、企業(yè)家、工程師等約200人參加研討活動(dòng)。

納獅東莞分公司已經(jīng)有近20年的發(fā)展歷程，在高光刀，亞高光刀應(yīng)用上有良好的口碑和設(shè)備。歡迎前來指導(dǎo)和交流工作。