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大功率無液滴高光弧PVD真空設備與先進工模具涂層解決方案
190601 常見PVD設備工藝對比02 高光弧工藝特點 03 納獅高光弧真空鍍膜設備04 高光弧刀具Ta-c涂層應用納獅Spark高光弧技術,廣泛用于3C高光刀涂層應用。相較于傳統的過慮弧多弧離子鍍,甚至最新的Hipims高頻磁控濺射,液滴明顯及膜缺陷顯著減少。 納獅Spark無液滴...
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01 常見PVD設備工藝對比02 高光弧工藝特點 03 納獅高光弧真空鍍膜設備04 高光弧刀具Ta-c涂層應用納獅Spark高光弧技術,廣泛用于3C高光刀涂層應用。相較于傳統的過慮弧多弧離子鍍,甚至最新的Hipims高頻磁控濺射,液滴明顯及膜缺陷顯著減少。 納獅Spark無液滴...
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